1. ......................
پدیدآورنده : Symposium on Plasma Polymerization, Miami Beach, Fla
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه فردوسی مشهد (خراسان رضوی)
موضوع : Congresses ، Polymers and polymerization,Congresses ، Plasma chemistry
رده :
QD
380
.
S938
1978
![](/design/images/bookmore.png)
![](/design/images/visualshelfbtn.png)
2. Advances in heat transfer
پدیدآورنده : / edited by A.Fridman [et al]
کتابخانه: مكتبات الكلية التقنية 1 بجامعة طهران (طهران)
موضوع : Heat -- Transmission,Mass transfer,Plasma chemistry
رده :
QC
320
.
A3H4
2007
![](/design/images/bookmore.png)
![](/design/images/visualshelfbtn.png)
3. Atomic absorption and plasma spectroscopy
پدیدآورنده : Dean, John R.
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه فردوسی مشهد (خراسان رضوی)
موضوع : Programmed instruction ، Atomic spectroscopy,Programmed instruction ، Plasma spectroscopy,Programmed instruction ، Chemistry, Analytic
رده :
QD
96
.
A8
D4
1997
![](/design/images/bookmore.png)
![](/design/images/visualshelfbtn.png)
4. Atomic absorption and plasma spectroscopy
پدیدآورنده : Author, John R. Dean; editor, David J. Ando
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اسناد دانشگاه شهید مدنی آذربایجان (أذربایجان الشرقیة)
موضوع : Atomic spectroscopy - Programmed instruction,Plasma spectroscopy - Programmed instruction,Chemistry, Analytic - Programmed instruction
رده :
QD
,
96
,.
A8D4
,
1997
![](/design/images/bookmore.png)
![](/design/images/visualshelfbtn.png)
5. Atomic absorption and plasma spectroscopy
پدیدآورنده : Dean, John R.
کتابخانه: كتابخانه مركزي و مركز اسناد دانشگاه صنعتي خواجه نصير الدين طوسى (طهران)
موضوع : ، Atomic spectroscopy - Programmed instruction,، Plasma spectroscopy - Programmed instruction,، Chemistry, Analytic - Programmed instruction
رده :
QD
96
.
A8D4
1997
![](/design/images/bookmore.png)
![](/design/images/visualshelfbtn.png)
6. Atomic absorption and plasma spectroscopy
پدیدآورنده : Dean, John R
موضوع : Programmed instruction ، Atomic spectroscopy,Programmed instruction ، Plasma spectroscopy,، Chemistry, Analytic
۳ نسخه از این کتاب در ۳ کتابخانه موجود است.
7. Atomic absorption and plasma spectroscopy
پدیدآورنده : / John R. Dean
کتابخانه: المكتبة المركزية لجامعة إيلام (إیلام)
موضوع : Atomic spectroscopy-Programmed instruction,Plasma spectroscopy-programmed instruction,Chemistry,Analytic-programmed instruction.
رده :
QD96
.
A8D4
1997
![](/design/images/bookmore.png)
![](/design/images/visualshelfbtn.png)
8. Atomic absorption and plasma spectroscopy
پدیدآورنده : Dean, John R.
کتابخانه: (طهران)
موضوع : Atomic spectroscopy - Programmed instruction , Plasma spectroscopy - Programmed instruction , Chemistry, Analytic - Programmed instruction
رده :
QD
96
.
A8
D4
1997
![](/design/images/bookmore.png)
![](/design/images/visualshelfbtn.png)
9. Atoms, Molecules and Optical Physics 1 :
پدیدآورنده : by Ingolf V. Hertel, Claus-Peter Schulz.,Hertel, Ingolf V,
کتابخانه: المكتبة المركزية ومركز الأرشيف (طهران)
موضوع : Atoms.,Electrodynamics.,Optics.,Physical chemistry.,Physics.,Atomic, Molecular, Optical and Plasma Physics.,Classical Electrodynamics.,Physical Chemistry.
رده :
539
H573A
2015
23
![](/design/images/bookmore.png)
![](/design/images/visualshelfbtn.png)
10. Discrete sample introduction techniques for inductively coupled plasma mass spectrometry
پدیدآورنده : Diane Beauchemin ... [et al.]&
کتابخانه: كتابخانه پژوهشگاه علوم و فناوری رنگ (طهران)
موضوع : Inductively coupled plasma atomic emission spectrometry,Sample introduction (Chemistry)
رده :
{
1648
},
bfe62317bafd43d8ba1e509724d39021
![](/design/images/bookmore.png)
11. Dustry plasmas : physics, chemistry and technological impacts in plasma processing
پدیدآورنده : edited by Andre Bouchoule
کتابخانه: (طهران)
موضوع : Plasma engineering , Plasma )Ionized gases( , Dusty Plasmas , Plasma chemistry , Plasma-enhanced chemical vapor deposition
رده :
TA
2020
.
D88
1999
![](/design/images/bookmore.png)
![](/design/images/visualshelfbtn.png)
12. Dusty Plasmas: Physics, Chemistry and Technologyical impacts in plasma
پدیدآورنده : / Edited by Andre Bouchoule
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه محقق اردبیلی ره (أردبیل)
موضوع : Plasma engineering.,Plasma(Ionized gases _ Industrial applications).,Dust.,Plasma chemistry.,Plasma enhanced chemical vapor deposition.
رده :
TA2020
.
D
38
![](/design/images/bookmore.png)
![](/design/images/visualshelfbtn.png)
13. Dusty plasma: Physics, chemistry and technological impacts in plasma processing
پدیدآورنده : / edited by Andre Bouchoule
کتابخانه: المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية (أذربایجان الشرقیة)
موضوع : Plasma engineering,Plasma (Ionized gases)- Industrial applications,Dust,Plasma chemistry,Plasma enhanced chemical vapor deposition
رده :
TA2020
.
D88
1999
![](/design/images/bookmore.png)
![](/design/images/visualshelfbtn.png)
14. Dusty plasmas:physice,chemistry and technological impacts in plasma processing
پدیدآورنده :
کتابخانه: كتابخانه مركزي و مركز اسناد دانشگاه مازندران (مازندران)
موضوع : Plasma engineering,Plasma(Ionized gases-Industrial applications),Dust,Plasma chemistry,Plasma enhanced chemical vapor deposition
رده :
TA2020
.
D88
1999
![](/design/images/bookmore.png)
![](/design/images/visualshelfbtn.png)
15. Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing
پدیدآورنده : edited by Andre Bouchoule
موضوع : ، Plasma engineering,Industrial applications ، Plasma )Ionized gases(,، Dusty plasmas,، Plasma chemistry,، Plasma-enhanced chemical vapor deposition
۲ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
16. Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing
پدیدآورنده : edited by Andre Bouchoule
کتابخانه: (طهران)
موضوع : ، Plasma engineering,Industrial applications( ، Plasma )Ionized gases(,، Dusty plasmas,، Plasma chemistry,، Plasma-enhanced chemical vapor deposition
رده :
TA
2020
.
D8
![](/design/images/bookmore.png)
![](/design/images/visualshelfbtn.png)
17. Engineering, chemistry, and use of plasma reactors
پدیدآورنده :
کتابخانه: كتابخانه مركزی دانشگاه صنعتی شریف (طهران)
موضوع : ، Plasma chemistry-- Industrial applications-- Congresses
رده :
TP
156
.
P5
.
E54
![](/design/images/bookmore.png)
![](/design/images/visualshelfbtn.png)
18. First report on measurement of temperature and concentration of excited species in optically thin plasmas and Measurements in Plasma Chemistry )April 1979(
پدیدآورنده :
کتابخانه: كتابخانه مركزی دانشگاه صنعتی شریف (طهران)
موضوع : ، Plasma chemistry-- Congresses,، Plasma )Ionized Gasses(-- Congresses
رده :
QD
501
.
I52
![](/design/images/bookmore.png)
![](/design/images/visualshelfbtn.png)
19. Fundamental aspects of plasma chemical physics
پدیدآورنده : / [author], Mario Capitelli [and seven others]
کتابخانه: المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية (أذربایجان الشرقیة)
موضوع : Plasma (Ionized gases),Plasma chemistry.,Physics.,Chemistry, Physical and theoretical.,Mechanics.,Plasma Physics.,Physical Chemistry.,Theoretical, Mathematical and Computational Physics.
رده :
QC718
.
4
.
C37
2016
![](/design/images/bookmore.png)
![](/design/images/visualshelfbtn.png)
20. Fundamental aspects of plasma chemical physics :
پدیدآورنده : Mario Capitelli, Roberto Celiberto, Gianpiero Colonna, Fabrizio Esposito, Claudine Gorse, Khaled Hassouni, Annarita Laricchiuta, Savino Longo.
کتابخانه: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع : Chemistry, Physical and theoretical.,Mechanics.,Physics.,Plasma (Ionized gases),Plasma chemistry.,Physical Chemistry.,Plasma Physics.,Theoretical, Mathematical and Computational Physics.
رده :
QC718
.
4
![](/design/images/bookmore.png)
![](/design/images/visualshelfbtn.png)